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3 mol%氧化钇稳定四方氧化锆多晶陶瓷中晶粒内部的缺陷研究

期刊:Journal of Advanced CeramicsDOI:10.26599/jac.2024.9220869

3 mol%氧化钇稳定的四方氧化锆多晶陶瓷(3Y-TZP)中晶粒内部缺陷的研究

作者及机构
本研究由Yan Xiong(湖北工业大学材料与化学工程学院)、Lian Luo(湖北工业大学)、Yao Cheng(中国科学院福建物质结构研究所)、Zhi Liu(江西赛瓷材料有限公司)、Qi Liu(江西赛瓷材料有限公司)、Weimin Wang(武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室)及Wei Ji(武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室)共同完成。研究成果发表于*Journal of Advanced Ceramics*(2024年4月,第13卷第4期)。


学术背景
氧化钇稳定的四方氧化锆多晶陶瓷(Y-TZP)因其高断裂韧性、化学惰性及透光性,广泛应用于牙科修复体、光纤连接器等工程领域。然而,传统无压烧结法制备的块体3Y-TZP陶瓷中高密度缺陷的报道极少。本研究旨在探究0.25 wt%氧化铝(Al₂O₃)掺杂对3Y-TZP陶瓷微观结构及烧结行为的影响,揭示缺陷形成的机制及其对低温烧结的促进作用。


研究流程

  1. 样品制备

    • 原料:使用三种商业氧化锆粉末:MS(含0.25 wt% Al₂O₃,水热法合成)、SZ(无Al₂O₃)及TZE(日本东曹公司提供,含0.25 wt% Al₂O₃)。
    • 烧结工艺:粉末经10 MPa单轴压制和250 MPa冷等静压(CIP)后,在1000℃预烧结2小时,随后在1300℃无压烧结2小时(升温速率:1000℃前10℃/min,之后5℃/min)。
  2. 表征方法

    • X射线衍射(XRD):分析相组成及晶格参数变化,通过Rietveld精修计算晶胞参数和四方度(c/a)。
    • 电子显微镜
      • 扫描电镜(SEM):观察表面形貌及晶粒尺寸(线性截距法)。
      • 高分辨透射电镜(HRTEM):检测晶粒内部缺陷(如刃位错)。
    • 密度测量:阿基米德法测定相对密度(理论密度6.072 g/cm³)。
  3. 对比实验

    • 对比含Al₂O₃(MS、TZE)与无Al₂O₃(SZ)样品的缺陷密度、相变行为及烧结动力学。

主要结果

  1. 微观结构

    • MS样品在1300℃烧结后获得平均晶粒尺寸147 nm、相对密度>99.9%的致密陶瓷。HRTEM显示晶粒内部存在高密度刃位错(图3),而SZ样品无此现象。
  2. 相变行为

    • XRD分析:MS粉末在900℃完成单斜相(m)→四方相(t)转变,且四方相(101)峰随温度升高先向高角度偏移(1100℃前),后向低角度偏移(1200℃后),表明Y³⁰迁移导致晶格应变(图4)。
  3. 缺陷成因

    • HRTEM证实缺陷与Al₂O₃掺杂直接相关(图5)。Al³⁰(半径0.050 nm)与Zr⁴⁰(半径0.079 nm)的离子半径差异(36.7%)导致晶格畸变,形成刃位错。
  4. 烧结动力学

    • 缺陷的存在增强了原子扩散速率,使MS样品在1300℃即可实现致密化,而传统3Y-TZP需更高温度(如1400℃)。

结论与意义
1. 科学价值:首次报道了无压烧结3Y-TZP陶瓷中晶粒内部高密度缺陷的现象,揭示了Al₂O₃掺杂通过离子半径差异诱导缺陷的机制。
2. 应用价值:缺陷工程可优化3Y-TZP的低温烧结工艺,降低能耗,适用于复杂形状陶瓷器件的规模化生产。


研究亮点
1. 创新发现:在常规无压烧结陶瓷中观察到晶粒内部高密度缺陷,挑战了传统认知。
2. 方法学:结合HRTEM与Rietveld精修,多尺度解析缺陷与晶格畸变的关联性。
3. 工业意义:为牙科修复体等精密陶瓷器件的低温烧结提供了新思路。


其他有价值内容
- 作者指出缺陷在1400℃高温下会因位错湮灭而消失(图S6),解释了既往研究中未观察到类似现象的原因。
- 对比不同原料(MS与TZE)的烧结行为,发现化学法制备的Al₂O₃掺杂粉末(MS)晶粒更细,为掺杂方法选择提供了参考。

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