本研究的通讯作者为丹麦技术大学(Technical University of Denmark)宏观量子态研究中心(Center for Macroscopic Quantum States, BigQ)的Dennis Høj与Ulrik Lund Andersen,合作作者包括Fengwen Wang、Wenjun Gao、Ulrich Busk Hoff、Ole Sigmund等。研究团队来自丹麦技术大学物理系、机械工程系以及同济大学土木工程防灾国家重点实验室。该成果于2021年发表在《Nature Communications》期刊,标题为《Ultra-coherent nanomechanical resonators based on inverse design》,DOI号为10.1038/s41467-021-26102-4。
本研究属于量子微纳机械系统(quantum micro/nanomechanical systems)领域,聚焦于通过结构设计优化机械谐振器的品质因数(quality factor, Q)与频率(frequency, f)的乘积(Q·f)。传统方法依赖人工直觉与试错,难以穷尽所有可能的高性能结构设计。本研究提出利用拓扑优化(topology optimization)这一计算形态生成方法,突破传统设计的局限性,实现超低耗散的纳米机械谐振器。
机械谐振器的Q·f乘积是量子光学力学(quantum optomechanics)和精密传感的关键参数,需满足Q·f > kBT/ħ ≈ 6×10¹² Hz(室温下)才能支持量子相干实验。传统设计方法受限于几何假设,无法全局优化结构。本研究旨在通过逆向设计,探索此前未被发掘的高性能谐振器构型。
研究对象:设计域为700×700 μm²的预拉伸氮化硅(Si₃N₄)薄膜,中心设100×100 μm²的pad用于光力相互作用,边界预留5 μm框架。厚度为50 nm,离散为200×200四边形壳单元。
优化流程:
- 目标函数:最大化Q·f乘积,同时约束基频≥240 kHz,材料体积分数≤50%。
- 鲁棒性设计:考虑三种制造误差(过刻蚀、标称、欠刻蚀),通过最小化三种情况下的最差Q·f保证实际性能。
- 损耗模型:针对五种本征损耗与PTL比例(D1–D5)分别优化,例如D1仅考虑本征损耗,D5仅考虑PTL。
数值方法:
- 基于有限元的线性特征值分析,结合损耗刚度矩阵。
- 使用密度过滤(density filter)和双曲正切投影消除棋盘格效应,确保设计可制造性(图1c展示D1的迭代演化)。
制造工艺:
- 采用低压化学气相沉积(LPCVD)制备高应力(σ₀≈1.2 GPa)氮化硅薄膜。
- 光刻与反应离子刻蚀(RIE)定义结构,氢氧化钾(KOH)湿法释放谐振器。
测试方法:
- 真空环境(<10⁻⁷ mbar)下通过光纤干涉仪测量谐振频率与Q值。
- 采用振幅衰减法(ring-down measurement):激发谐振后记录振幅衰减时间(图4a展示D4样品的衰减时间达160秒,对应Q=1.18×10⁸,Q·f=2.83×10¹³ Hz)。
- 热噪声谱分析验证高阶模态(图4b)。
数据量:
- 测试了967个器件,包括拓扑优化设计(D1–D5)与传统非优化“蹦床”谐振器(trampoline resonator)对照。
结果统计:
- 拓扑优化设计的Q·f产品显著高于传统设计(图3),最优器件达到4次相干振荡(室温下)。
- 损耗限制因素:通过理论拟合(公式1-3)确定本征损耗主导(β=2.93×10¹¹ m⁻¹),但部分样品因基底模态耦合导致PTL突增(图3a虚线)。
模态分析:
- COMSOL模拟显示弯曲损耗集中于边界和tether连接处(图5a),高应力区域(~2 MPa)的模态局域化稀释了损耗(类似分形结构效应)。