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镓促进铜催化剂在CO2加氢制甲醇中活性位点性质与反应机理的关联研究

期刊:ACS CatalysisDOI:10.1021/acscatal.4c04577

本研究由来自智利康塞普西翁大学(Universidad de Concepción)碳与催化实验室(Carbon and Catalysis Laboratory, Carbocat)的 Alejandro Karelovic 课题组主导完成,合作单位包括西班牙瓦伦西亚理工大学化学技术研究所(Instituto de Tecnología Química, UPV-CSIC)、德国卡尔斯鲁厄理工学院催化研究与技术研究所(IKFT, KIT)以及西班牙 ALBA 同步辐射光源。论文发表于 ACS Catalysis 期刊 2024 年第 14 卷,页码 15265 至 15278。

本工作聚焦于二氧化碳加氢制甲醇反应中镓(Ga)助剂对 Cu/SiO₂ 催化剂活性位本质、反应动力学及反应机理的促进效应。CO₂ 是主要的温室气体,而甲醇不仅是重要的化工原料,也被视为潜在的可再生燃料载体。铜基催化剂在该反应中虽被广泛研究,但其甲醇选择性低。此前已有研究表明 Ga 可作为结构助剂提高 Cu 基催化剂的甲醇选择性和活性,但 Ga 对 Cu 活性位本质的调控机制以及甲醇合成的具体反应路径仍存在争议。因此,本研究的核心目标是:在排除 Cu 粒径效应的干扰下,揭示 Ga₂O₃ 助剂、Cu⁺ 活性位的形成以及反应机理之间的内在联系。

本研究首先通过初湿浸渍法(incipient wetness impregnation)制备了 Ga/(Cu+Ga) 摩尔比分别为 0.01、0.05、0.10、0.15 和 0.20 的 CuxGa(y)/SiO₂ 催化剂,并以负载量为 10 wt% 的 Cu/SiO₂ 作为未促进参比催化剂。制备中引入三乙醇胺(TEA)以调控 Cu 分散,并通过透射电镜(TEM)证实所得 Cu 纳米颗粒平均粒径非常接近,均在 6.0 至 6.6 nm 之间。这一粒径一致性至关重要,因为甲醇合成在 Cu 上具有结构敏感性,而本工作通过保持粒径相近,可以将动力学差异唯一归因于 Ga 助剂的促进效应。随后,研究者采用 X 射线衍射(XRD)、H₂-程序升温还原(H₂-TPR)、N₂O 滴定、原位 X 射线吸收光谱(XAS)和准原位 X 射线光电子能谱(XPS)等手段对催化剂进行了系统的体相和表面结构表征。XRD 仅检测到金属 Cu 的衍射峰,未观察到 Ga₂O₃ 的特征衍射峰,说明 Ga 物种高度分散。XAS 的 XANES 和 EXAFS 结果表明,无论在超低 Ga 负载(Cuga(0.01))还是高 Ga 负载(Cuga(0.20))样品中,Ga 均以 Ga³⁺ 氧化态存在,且未形成 Cu-Ga 合金。XPS 进一步确认了 Cu⁺ 和 Ga³⁺ 的表面化学态。

为揭示活性位的本质,研究者采用低温(-160 °C)CO 吸附红外光谱(IR-CO)进行表征。在未促进的 Cu/SiO₂ 表面主要观察到归属于 Cu⁰-CO 的线性伸缩振动峰(2098、2065 和 2030 cm⁻¹)以及桥式吸附峰(1890 cm⁻¹)。而在 Ga 促进的催化剂上,新增了位于 2125 cm⁻¹ 的振动峰,归属于与 Cu⁺ 线性键合的 CO 伸缩振动。更重要的是,Cu⁺ 峰的积分面积随 Ga 负载量增加而线性增大,且 Cu⁺/(Cu⁰+Cu⁺) 比例与甲醇转换频率(TOF_CH3OH)呈高度正相关(相关系数 > 95%),直接表明 Cu⁺ 位点是甲醇合成的关键活性位。进一步的原位 CO₂ 吸附红外实验显示,仅 Ga 促进样品在 2196 cm⁻¹ 处出现归属于 Cu⁺(O)-CO 的振动峰,说明 Cu-Ga₂O₃ 界面处的 Cu⁺ 位点能够在无 H₂ 条件下直接解离 CO₂,生成强吸附的 CO 物种。这些结果为后续提出的反应机理奠定了基础。

在催化性能方面,反应在 220~280 °C、8 bar 和 H₂/CO₂ = 3 的微分条件下进行。结果表明,甲醇的 TOF 随 Ga 含量的增加近似线性上升,而 CO 的 TOF 几乎不随 Ga 负载量变化。这说明 Ga 助剂仅促进了甲醇的生成,并未改变 CO 的生成速率。值得注意的是,从 Cu/SiO₂ 到 Cuga(0.01),甲醇 TOF 出现突跃,暗示 Ga 的引入改变了甲醇活性位的性质;而在更高 Ga 含量区间,TOF 与 Ga 含量呈近似线性关系,表明新增的界面活性位数量随 Ga 负载量成比例增加。表观活化能(E_app)测定显示,CO 的 E_app 在 73~83 kJ/mol 范围内不受 Ga 影响,而甲醇的 E_app 则从 Cu/SiO₂ 的 55 kJ/mol 逐渐降低到 Cuga(0.20) 的 33 kJ/mol。这一下降趋势与甲醇活性位从 Cu⁰ 向 Cu⁺ 界面位的转变一致。

为辨析反应中间体及表面反应路径,研究者进行了原位/工况漫反射红外光谱(operando-DRIFTS)研究。在稳态 CO₂ 加氢条件下,催化剂表面检测到甲氧基(CH₃O*)物种,其 C-H 伸缩振动频率在 Cu/SiO₂ 与 Cuga(0.20) 之间存在明显差异,说明甲氧基在促进催化剂上结合于不同于 Cu⁰ 的新位点,即 Cu-Ga₂O₃ 界面处的 Cu⁺。同时,在向反应体系中通入 CO₂ 而不含 H₂ 的条件下,表面生成的双齿甲酸盐振动频率在不同催化剂上保持一致,说明甲酸盐物种主要形成于 Cu⁰ 位点。瞬态切换实验进一步显示,在未促进的 Cu/SiO₂ 上,CO 和 CH₃OH 信号近似同时变化,暗示二者可能共享相同的甲酸盐中间体;而在 Cuga(0.20) 上,CO 的信号变化先于甲醇,且二者产生不同步,表明 CO 与甲醇的生成路径在促进催化剂上发生了分离。综合这些光谱学证据,研究者提出:在未促进的 Cu/SiO₂ 上,甲醇主要通过甲酸盐路径在 Cu⁰ 位点上生成;而在 Ga 促进的催化剂上,除了 Cu⁰ 位点上的甲酸盐路径外,还存在一条在 Cu-Ga₂O₃ 界面 Cu⁺ 位点上进行的逆水煤气变换(RWGS)加 CO 加氢(CO-hydrogenation)路径。

为进一步定量描述活性位数量和本征活性,研究者开展了稳态同位素瞬态动力学分析(SSITKA)实验。在 220 °C 和 3.5 bar 下,将反应气从 ¹²CO₂/H₂ 切换为 ¹³CO₂/H₂ 后,通过质谱追踪 ¹³CH₃OH 和 ¹³CO 的响应曲线。结果显示,甲醇中间体的表面停留时间(τ_CH3OH)从 Cu/SiO₂ 的 173 s 增加到 Cuga(0.20) 的 223 s,而 CO 中间体的停留时间约为 2.7~3.7 s,受 Ga 影响很小。这说明甲醇活性位的本征活性远低于 CO 活性位,且 Ga 的引入使甲醇活性位的性质发生了改变。通过 SSITKA 定量计算得到的甲醇中间体浓度(N_CH3OH)从 Cu/SiO₂ 的 0.10 μmol/gcat 增加到 Cuga(0.20) 的 0.90 μmol/gcat,而 N_CO 基本保持不变。这说明 Ga 助剂的核心贡献在于增加了甲醇合成的活性位数量,而非提高单位位点的本征活性。进一步计算的本质转换频率(TOF_ITK)表明,Cu-Ga₂O₃ 界面位点的本征反应速率虽然低于 Cu⁰ 位点,但其数量优势弥补了本征活性的不足,从而在宏观上显著提高了甲醇生成速率。

本研究通过将粒径一致的 Cu/SiO₂ 模型催化剂与多种原位/工况表征及同位素瞬态技术相结合,明确建立了 Ga₂O₃ 助剂含量、Cu⁺ 界面活性位形成和甲醇合成反应路径转变之间的定量关系。主要结论包括:第一,Ga 以高度分散的 Ga₂O₃ 形式稳定存在,并与 Cu 纳米颗粒形成 Cu-Ga₂O₃ 界面,在该界面处稳定生成 Cu⁺ 位点;第二,Cu⁺ 界面位点能够直接解离 CO₂,并通过 RWGS + CO-Hydro 路径生成甲醇,而未促进 Cu/SiO₂ 上的甲醇主要通过甲酸盐路径在 Cu⁰ 位点上生成;第三,Ga 助剂选择性地增加了甲醇合成的活性位数量,但不改变 CO 生成的活性位本质和数量,从而使甲醇选择性随 Ga 含量增加而提升。本研究的科学价值在于厘清了 Cu-Ga 体系中活性位本质与反应路径之间的构效关系,为理性设计高性能 CO₂ 加氢制甲醇催化剂提供了明确的理论依据和实验方法学参考。特别是在模型催化剂粒径可控的前提下,通过多技术联用策略,为其他金属-氧化物界面催化体系的研究提供了可借鉴的研究范式。

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