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具有强且可调光-物质相互作用的石墨烯光子晶体光纤

期刊:Nature PhotonicsDOI:10.1038/s41566-019-0492-5

本研究题为《具有强且可调光-物质相互作用的石墨烯光子晶体光纤》(Graphene photonic crystal fibre with strong and tunable light–matter interaction),由Ke Chen, Xu Zhou, Xu Cheng等作者共同完成,通讯作者为Kaihui Liu与Zhongfan Liu。研究机构包括北京大学、河南大学、北京石墨烯研究院(BGI)、阿尔托大学以及加州大学伯克利分校等多家单位。该研究成果发表于《自然·光子学》(Nature Photonics) 期刊,2019年11月,第13卷,第754-759页。

一、 研究的学术背景 本研究属于纳米材料、光子学和光纤技术的交叉领域。石墨烯因其优异的电学和光学特性,如高载流子迁移率、宽带光学响应和易于电学调控等,在光子学和光电子学应用中极具前景。然而,单层石墨烯对光的吸收率仅有约2.3%,其与光的相互作用强度有限,这限制了其在宏观器件中的应用。为了增强光-石墨烯相互作用,以往的研究通常将石墨烯薄片与微米尺度的光栅、波导或微腔等光学结构结合。但这些混合结构尺寸微小(微米级),难以实现大规模的实际应用。

与此同时,光子晶体光纤(Photonic Crystal Fiber, PCF)在过去20年中是光纤领域最重要的进展之一。PCF因其多孔结构,可以被填充进气体、液体、固体等多种功能材料,从而极大地扩展了光纤的功能,例如实现锁模光纤激光器、频率转换等。将石墨烯与PCF结合,有望创造出兼具石墨烯独特性能和光纤波导优势的新型混合材料,并实现全光纤集成器件。然而,在此之前,将石墨烯集成到PCF中的尝试(如转移石墨烯薄片或填充石墨烯碎片)仅限于微米尺度,且可能对光纤模式产生有害影响,无法实现均匀、大规模(米级)的制备。

因此,本研究旨在解决这一关键挑战:开发一种能够大规模制备长度达米级、石墨烯均匀覆盖且不破坏PCF结构的石墨烯-光子晶体光纤(Gr-PCF)混合材料,并探索其在增强光-物质相互作用及实现高性能电光调制器方面的潜力。

二、 详细研究流程 本研究主要包括三个核心环节:Gr-PCF的制备与表征、光-物质相互作用的增强验证、以及基于Gr-PCF的电光调制器构建与性能测试。研究对象为通过化学气相沉积(CVD)方法生长的Gr-PCF,其长度可达半米(50厘米)。

  1. Gr-PCF的化学气相沉积(CVD)生长与表征:

    • 生长方法: 研究团队采用了一种直接的CVD生长法。他们将PCF(空气孔直径约4微米)置于管式炉中,在约1100°C的高温下,使甲烷作为碳源气流经PCF的微米级孔道。他们比较了常压CVD(APCVD)和低压CVD(LPCVD,压力0.5-1.0 kPa)两种工艺。
    • 表征手段: 生长完成后,使用多种技术对材料进行全面表征。
      • 结构完整性: 扫描电子显微镜(SEM)图像显示生长后的PCF保持了其结构完整性,包含实心二氧化硅纤芯和周围周期性排列的空气孔包层。
      • 石墨烯覆盖与质量: 拉曼(Raman)Mapping证实了石墨烯在光纤外表面的完全覆盖。拉曼光谱显示出尖锐的G峰和2D峰,证明了石墨烯的高质量(可观察到的D峰主要来源于石墨烯晶界)。
      • 内壁石墨烯的直接证据: 通过光学对比度观察(Gr-PCF比裸PCF颜色更深)间接表明内壁有石墨烯生长。更直接的证据来自将Gr-PCF断裂后,观察到附着在孔壁上并突出孔道的管状石墨烯框架。此外,通过氢氟酸溶解二氧化硅纤维,并将外表面石墨烯用空气等离子体去除后,获得了来自孔壁的圆柱状石墨烯薄膜,其在硅基底上坍塌为带状。原子力显微镜(AFM)测量其平均厚度约为2.0纳米。选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)图像进一步揭示了石墨烯的多晶结构和完美的晶格结构。
    • 均匀性控制: 针对在狭长微米孔道内气体流动的挑战,研究团队通过理论模型(粘性流与分子流)和实验对比,阐明了均匀生长的关键。在APCVD下,气体为粘性流,碳前驱体传输受质量转移限制,导致沿气流方向石墨烯厚度不均匀。而在LPCVD下,气体接近分子流状态,质量扩散过程可忽略,碳物种能够均匀输运,从而实现了沿整个光纤轴向(长度方向)石墨烯薄膜厚度的均匀生长,这通过沿光纤不同位置提取的石墨烯带的拉曼光谱参数(I2D/IG比值和2D峰半高宽FWHM2d)波动极小得以证实。
  2. Gr-PCF中光-物质相互作用的增强验证:

    • 模拟分析: 研究首先使用全矢量有限元方法模拟了Gr-PCF中基模的光电场分布。模拟显示,光场主要局限在纤芯中,但通过倏逝波耦合,约有十分之一的电场与最内层孔壁上的石墨烯发生相互作用。
    • 实验测量: 通过测量光在光纤中传播的强度衰减来定量评估光-石墨烯相互作用。对于约4厘米长的裸PCF,未观察到可测的衰减(<0.01 dB cm-1)。而对于Gr-PCF,观察到了强烈的衰减,衰减系数高达8.3 dB cm-1。这相当于约1.5层的平均石墨烯层数(其中0.5层来源于部分区域生长的第二层石墨烯)。该衰减系数远高于悬浮单层石墨烯的衰减(约0.1 dB),证明了在Gr-PCF中,由于光沿光纤轴向传播时的多次反射,有效相互作用面积和长度被极大地放大,从而显著增强了光-石墨烯相互作用。
  3. 基于Gr-PCF的电光调制器构建与性能测试:

    • 器件结构: 调制器由一段短Gr-PCF(0.5-1.5厘米)构成。光纤孔内填充离子液体(DEME-TFSI)。Gr-PCF孔壁上的石墨烯与外部电极电连接,离子液体与另一个电极接触。施加栅极电压可在石墨烯-离子液体界面形成电双层,从而高效地调控石墨烯的费米能级。
    • 工作原理: 石墨烯的光吸收取决于其费米能级(Ef)与光子能量(ħω)的相对位置。当Ef < ħω/2时,石墨烯吸收光子(“关”态,光传输弱);当Ef > ħω/2时,石墨烯吸收被抑制(“开”态,光传输强)。通过离子液体门控改变Ef,即可实现光传输强度的调制。
    • 性能测试: 研究测量了调制器的性能随栅压和波长的变化。结果表明,该调制器具有宽带响应(1150–1600 nm),并且在低栅压(约2 V)下工作。特别是在光纤通信的O波段(1310 nm)和C波段(1550 nm),在-1.8 V栅压下,调制深度分别达到约13 dB cm-1和约20 dB cm-1。研究也指出了当前器件存在“开”态插入损耗(约6 dB cm-1)和开关速度较慢(约16 Hz)等问题,并提出了通过生长更高质量单层石墨烯或优化结构(如Gr/hBN/Gr-PCF)来进一步提升性能的途径。

三、 主要研究结果 1. 成功制备了半米级均匀的Gr-PCF混合材料: 通过低压CVD方法,成功在PCF的外表面和内壁均匀生长了高质量石墨烯,长度可达50厘米。表征数据(SEM、Raman、AFM、TEM)全面证实了石墨烯的覆盖、质量和均匀性。 2. 实现了显著增强的光-石墨烯相互作用: 实验测得Gr-PCF的光衰减系数高达8.3 dB cm-1,相比悬浮单层石墨烯提升了两个数量级,模拟和理论分析将其归因于光纤波导结构带来的有效相互作用面积和长度的极大增加。 3. 展示了高性能的电光调制能力: 基于Gr-PCF和离子液体门控构建的电光调制器,在低工作电压(~2 V)下实现了宽带(1150-1600 nm)调制和大的调制深度(1550 nm处~20 dB cm-1)。这直接证明了通过电学调控石墨烯费米能级,可以有效控制Gr-PCF中的光-物质相互作用强度。

四、 研究结论与意义 本研究成功开发了一种全新的混合材料——半米长的石墨烯-光子晶体光纤(Gr-PCF),并通过直接的CVD生长方法实现了其大规模制备。该材料不仅保持了PCF的波导模式完整,还极大地增强了光与石墨烯的相互作用,并可通过电学手段对此相互作用进行有效调控。

其科学价值在于:1) 提供了一种将二维材料与宏观光纤结构高效、均匀集成的新范式,解决了以往微米尺度集成难以规模化应用的难题;2) 深入揭示了在受限空间(PCF微孔)内通过控制气体流动模式(分子流)实现均匀材料生长的机理;3) 为研究增强型光-物质相互作用提供了一个理想的平台。

其应用价值在于:1) 所演示的电光调制器展示了Gr-PCF在下一代全光纤集成通信器件中的巨大潜力,如可电调谐的锁模全光纤激光器、门控可调的非线性波长转换器、可调宽带偏振器和光限幅器等;2) 该生长策略为其他二维晶体基全光纤器件的大规模生产开辟了新方向,有望催生具有各种新功能的光纤技术。

五、 研究亮点 1. 方法创新: 首创了在长达半米的光子晶体光纤内部微米孔道中直接CVD生长均匀石墨烯薄膜的方法,攻克了无金属催化剂、狭长空间内气流控制等挑战,实现了从微米级到米级的突破。 2. 材料创新: 创造出“Gr-PCF”这一新型功能化混合材料,兼具石墨烯的电学可调性与PCF的优异波导特性,且制备过程对光纤结构无损伤。 3. 性能卓越: 实验验证了该材料具有强(8.3 dB cm-1衰减)且可电调(~20 dB cm-1调制深度)的光-物质相互作用,其调制器性能指标(宽带、低电压)处于领先水平。 4. 应用前景广阔: 工作直接指向工业级应用,为基于石墨烯等二维材料的下一代功能光纤器件的大规模制造铺平了道路。

六、 其他有价值的内容 研究中对APCVD和LPCVD两种生长模式下石墨烯均匀性的对比分析,不仅是一个工艺优化过程,更是一个深入的基础科学研究,清晰阐述了在受限空间内质量传输机制对材料生长均匀性的决定性影响,这对于其他类似结构的材料合成具有重要指导意义。此外,论文也坦诚指出了当前调制器在插入损耗和响应速度方面的不足,并提出了明确的未来改进方向,体现了研究的严谨性和前瞻性。

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