学术报告:SiC MOSFET栅氧可靠性及故障率降低研究
作者及机构
本研究的两位主要作者为Thomas Aichinger(隶属Infineon Technologies Austria AG)和M. Schmidt(隶属Infineon Technologies AG)。论文以会议论文形式发表于2020年4月的IEEE国际可靠性物理研讨会(IRPS),DOI编号为10.1109/irps45951.2020.9128223。
学术背景
研究领域聚焦于宽禁带半导体器件可靠性,具体针对碳化硅(SiC)金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的栅氧(gate-oxide)可靠性问题。SiC MOSFET因其高耐压、高温工作能力被视为下一代功率器件的核心,但长期以来其栅氧早期失效问题阻碍了商业化进程。与硅(Si)技术相比,SiC/SiO₂界面存在更高的缺陷密度,导致器件在应用中出现“早期失效”(extrinsic failures)。本研究旨在通过电学筛选(electrical screening)技术降低故障率,并验证工业级SiC沟槽MOSFET(trench MOSFET)的可靠性是否可媲美传统Si器件。
研究流程与方法
1. 问题定义与理论框架
研究首先对比了Si与SiC MOSFET的栅氧本征可靠性(intrinsic reliability),通过时间依赖介电击穿(TDDB, Time-Dependent Dielectric Breakdown)测试验证两者在高压下的击穿特性相似(图1)。但SiC器件因材料缺陷存在更高的“外因失效”概率(1-10%),需通过筛选剔除缺陷器件。
电学筛选技术开发
马拉松应力测试(Marathon Stress Test)
主要结果
1. 本征可靠性验证:SiC与Si MOSFET在相同氧化层厚度下表现出相似的TDDB特性(图1b),驳斥了“SiC/SiO₂界面固有弱点”的假设。
2. 筛选效率验证:最优筛选组(Group 3)在+30V应力下仅1例失效,等效至18V工作条件时20年故障率<1ppm(图10),达到Si IGBT水平。
3. 缺陷机制:外因失效源于局部氧化层减薄(图3),如衬底缺陷或金属污染,筛选通过高电场加速其暴露。
4. 性能-可靠性权衡:70nm厚栅氧虽增加约20%导通电阻,但为高压筛选提供安全裕度,避免器件退化(如阈值电压漂移)。
结论与价值
1. 科学意义:
- 明确了SiC栅氧失效的双重机制(本征vs.外因),提出外因失效主导器件寿命。
- 开发了基于韦伯统计的量化模型,为高可靠性设计提供理论工具。
2. 工业应用:
- 通过电学筛选将SiC MOSFET的早期故障率从1-10%降至ppm级,推动其大规模商业化。
- 马拉松测试方法为极低失效率验证树立新标准,可扩展至其他宽禁带器件。
研究亮点
1. 方法创新:首创“马拉松应力测试”,通过超长时、大样本量实验解决ppm级失效的统计难题。
2. 技术突破:揭示高压筛选与栅氧厚度的定量关系,指导工艺优化。
3. 跨学科价值:融合材料科学(SiC缺陷)、统计学(韦伯分析)及功率电子学(器件设计),为可靠性研究提供范式。
其他发现
研究指出,高温老化(burn-in)虽可提升筛选效率,但会引发阈值电压不稳定性(Bias Temperature Instability, BTI),而短时高压脉冲筛选可避免此问题(引用[10])。这一发现对量产测试流程优化具有直接指导意义。