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基于超薄二维PdSeOx/PdSe2异质结构的忆阻器阵列内存计算

期刊:Advanced MaterialsDOI:10.1002/adma.202201488

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作者及研究机构

本研究的主要作者包括Yesheng Li、Shuai Chen、Zhigen Yu、Sifan Li、Yao Xiong、Mer-Er Pam、Yong-Wei Zhang和Kah-Wee Ang。研究团队来自多个机构,包括新加坡国立大学(National University of Singapore)电气与计算机工程系、武汉大学物理与技术学院、新加坡高性能计算研究所(A*STAR Institute for High Performance Computing)、武汉理工大学物理系以及新加坡材料研究与工程研究所(A*STAR Institute of Materials Research and Engineering)。该研究于2022年发表在《Advanced Materials》期刊上,DOI为10.1002/adma.202201488。

学术背景

本研究属于纳米电子学与神经形态计算领域,旨在解决传统冯·诺依曼计算架构中存在的“内存墙”问题,即数据在存储单元与处理器之间频繁传输导致的能效与速度瓶颈。近年来,基于忆阻器(memristor)的内存计算(in-memory computing, IMC)被认为是突破这一限制的潜在方案。然而,传统氧化物基忆阻器存在离子迁移的随机性,导致器件性能的显著变异性,进而影响神经网络的训练精度。本研究提出了一种基于超薄二维PdSeOₓ/PdSe₂异质结构的低电压忆阻器阵列,通过可控的紫外-臭氧(UV-ozone)处理实现了高均匀性的电阻切换(resistive switching, RS)行为,并展示了其在图像处理与神经网络硬件加速中的潜力。

研究流程

本研究分为以下几个主要步骤:

  1. 器件制备
    研究团队首先通过机械剥离法制备了少层PdSe₂纳米片,并将其转移到预先沉积的Ti/Au底电极上。随后,使用紫外-臭氧处理(100°C,15分钟)在PdSe₂表面形成过渡金属氧化物PdSeOₓ,构建了超薄PdSeOₓ/PdSe₂异质结构。通过透射电子显微镜(TEM)验证了异质结构的厚度约为1 nm。最后,使用电子束光刻技术(EBL)在纳米片上沉积Ti/Au顶电极,完成器件的制备。

  2. 电学性能测试
    器件在室温下使用半导体参数分析仪(Agilent 4155B)进行电流-电压(I-V)特性测试。通过脉冲测量(Keithley 4200-SCS)研究了器件的长期可塑性(long-term plasticity, LTP)和长期抑制(long-term depression, LTD)行为。研究还通过导电原子力显微镜(CAFM)和电子能量损失谱(EELS)分析了离子迁移机制。

  3. 材料表征
    使用高分辨率透射电子显微镜(HR-TEM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了臭氧处理时间对PdSe₂结构演化的影响。通过拉曼光谱和能量色散X射线光谱(EDS)进一步验证了异质结构的成分与缺陷分布。

  4. 理论计算与模拟
    研究团队利用密度泛函理论(DFT)和动力学蒙特卡洛(KMC)模拟分析了Ti⁺离子在PdSeOₓ/PdSe₂异质结构中的迁移行为,揭示了异质结构对导电丝(conductive filament)形成的限制作用。

  5. 图像处理与神经网络模拟
    基于PdSeOₓ/PdSe₂忆阻器阵列,研究团队实现了卷积图像处理,并利用NeuroSim+平台模拟了全连接人工神经网络(ANN)在MNIST数据集上的图像识别性能。

主要结果

  1. 均匀电阻切换行为
    研究结果表明,PdSeOₓ/PdSe₂异质结构忆阻器表现出高度均匀的双极非易失性电阻切换行为,其set和reset电压的变异系数(CV)分别为4.8%和-3.6%。这种均匀性归因于异质结构对导电丝形成的限制作用。

  2. 多级电阻状态
    通过调整合规电流(compliance current)和reset电压,器件实现了超过28个离散的低阻态(LRS)和9个离散的高阻态(HRS),展示了其在多态存储与神经网络权重更新中的潜力。

  3. 低能耗与高线性度
    器件的单次切换能耗低于1 pJ,并且通过优化脉冲方案实现了高度线性与对称的LTP和LTD行为,为神经网络的硬件加速提供了基础。

  4. 图像识别与卷积处理
    在MNIST数据集上的模拟结果显示,基于PdSeOₓ/PdSe₂忆阻器的ANN实现了93.4%的识别准确率,接近理想器件的性能(93.95%)。此外,研究团队还展示了基于忆阻器阵列的卷积图像处理,包括边缘检测、图像柔化等操作。

结论与意义

本研究提出了一种基于超薄二维PdSeOₓ/PdSe₂异质结构的低电压忆阻器,通过可控的紫外-臭氧处理实现了高均匀性的电阻切换行为。研究结果表明,这种异质结构能够有效限制导电丝的形成,从而显著降低器件性能的变异性。此外,器件展示的多级电阻状态、低能耗与高线性度为神经网络的硬件加速提供了重要支持。本研究的科学价值在于提出了一种新型忆阻器设计,解决了传统氧化物基忆阻器的关键瓶颈;其应用价值则体现在图像处理与神经网络硬件加速领域的潜在应用。

研究亮点

  1. 创新性器件设计
    通过紫外-臭氧处理构建了超薄PdSeOₓ/PdSe₂异质结构,实现了高均匀性的电阻切换行为。

  2. 高性能指标
    器件展示了低set/reset电压变异系数(4.8%/-3.6%)、多级电阻状态(>28 LRS和9 HRS)以及低切换能耗( pJ)。

  3. 应用潜力
    在MNIST数据集上实现了93.4%的图像识别准确率,并展示了卷积图像处理的能力,为神经形态计算硬件的发展提供了重要支持。

其他有价值内容

研究团队还通过DFT和KMC模拟深入分析了离子迁移机制,揭示了异质结构对导电丝形成的限制作用,为未来忆阻器设计提供了理论指导。此外,研究展示了基于忆阻器阵列的卷积图像处理,进一步验证了其在实际应用中的潜力。


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