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GaAs p-i-n二极管结构中相干纵向光学声子的电压可控太赫兹辐射研究
一、研究团队与发表信息
本研究的通讯作者为Masaaki Nakayama(大阪市立大学工学研究科应用物理系),合作者包括Souta Asai、Hideo Takeuchi(同单位)、Osamu Ichikawa与Masahiko Hata(住友化学株式会社)。研究发表于2013年10月1日的《Applied Physics Letters》(Appl. Phys. Lett. 103, 141109),标题为《Voltage-controllable terahertz radiation from coherent longitudinal optical phonons in a p-i-n diode structure of GaAs》。
二、学术背景与研究目标
太赫兹(THz)辐射在光谱学、生化传感等领域具有重要应用价值。传统半导体中,太赫兹辐射的生成机制主要有两种:一是光生载流子的表面瞬态电流(surface surge current),产生宽频太赫兹信号;二是相干光学声子(coherent optical phonon)振荡,产生单色太赫兹辐射。然而,体材料(bulk crystal)中相干声子辐射强度通常较低,且温度升高会显著抑制其强度。
本研究旨在解决两个关键问题:
1. 如何在室温下实现高强度单色太赫兹辐射;
2. 如何通过外部电压动态调控辐射强度。
研究团队提出了一种基于GaAs p-i-n二极管结构的解决方案,通过反向偏压(reverse bias voltage)调控内建电场,增强相干纵向光学声子(LO phonon)的初始极化(initial polarization),从而实现电压可控的太赫兹辐射。
三、研究流程与方法
1. 样品制备与结构设计
- 采用金属有机气相外延(MOVPE)技术在n型GaAs衬底上生长p-i-n结构,各层厚度分别为p层(50 nm)、i层(500 nm)、n层(3000 nm),掺杂浓度分别为1.0×10¹⁸ cm⁻³(p层)和3.0×10¹⁸ cm⁻³(n层)。
- 表面电极设计为Au/AuZn环形结构,光学窗口直径200 μm,确保激光有效激发i层。
电场强度标定
太赫兹辐射实验
数据分析
四、主要结果与机制分析
1. 电场强度依赖性
- 低电场范围(<50 kV/cm):辐射振幅(√Iₗₒ)与电场强度F呈线性关系,符合一阶电极化率(χ⁽¹⁾)主导的模型P_z = χ⁽¹⁾F。 - 高电场范围(>100 kV/cm):振幅与F²成正比,表明二阶电极化率(χ⁽²⁾_zzz)贡献显著。拟合结果显示χ⁽²⁾/χ⁽¹⁾ ≈ 2.1×10⁻² (kV/cm)⁻¹。
五、结论与价值
1. 科学意义
- 首次在p-i-n二极管中实现室温下电压可控的单色太赫兹辐射,强度调控范围达200倍。
- 揭示了二阶电极化率对声子极化的贡献,为太赫兹辐射机制研究提供新视角。
六、研究亮点
1. 创新性器件设计:利用p-i-n二极管的内建电场实现动态调控,避免传统应变MQW(multiple quantum well)中压电场的不可控性。
2. 发现二阶电极化效应:在>100 kV/cm电场下,χ⁽²⁾_zzz对辐射强度的贡献首次被实验证实。
3. 方法学优势:结合ER光谱精确标定电场强度,为类似研究提供了标准化流程。
七、其他发现
- 辐射强度与温度稳定性显著优于MQW结构,适合实际应用环境。
- 无需低温或复杂外延结构(如应变层),降低了制备成本。
本研究通过“哥伦布的鸡蛋”式简单设计解决了太赫兹辐射调控难题,为太赫兹科学与技术发展提供了重要工具。