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GaAs p-i-n二极管结构中相干纵向光学声子的电压可控太赫兹辐射

期刊:Appl. Phys. Lett.DOI:10.1063/1.4823595

类型a:

GaAs p-i-n二极管结构中相干纵向光学声子的电压可控太赫兹辐射研究

一、研究团队与发表信息
本研究的通讯作者为Masaaki Nakayama(大阪市立大学工学研究科应用物理系),合作者包括Souta Asai、Hideo Takeuchi(同单位)、Osamu Ichikawa与Masahiko Hata(住友化学株式会社)。研究发表于2013年10月1日的《Applied Physics Letters》(Appl. Phys. Lett. 103, 141109),标题为《Voltage-controllable terahertz radiation from coherent longitudinal optical phonons in a p-i-n diode structure of GaAs》。

二、学术背景与研究目标
太赫兹(THz)辐射在光谱学、生化传感等领域具有重要应用价值。传统半导体中,太赫兹辐射的生成机制主要有两种:一是光生载流子的表面瞬态电流(surface surge current),产生宽频太赫兹信号;二是相干光学声子(coherent optical phonon)振荡,产生单色太赫兹辐射。然而,体材料(bulk crystal)中相干声子辐射强度通常较低,且温度升高会显著抑制其强度。

本研究旨在解决两个关键问题:
1. 如何在室温下实现高强度单色太赫兹辐射;
2. 如何通过外部电压动态调控辐射强度。
研究团队提出了一种基于GaAs p-i-n二极管结构的解决方案,通过反向偏压(reverse bias voltage)调控内建电场,增强相干纵向光学声子(LO phonon)的初始极化(initial polarization),从而实现电压可控的太赫兹辐射。

三、研究流程与方法
1. 样品制备与结构设计
- 采用金属有机气相外延(MOVPE)技术在n型GaAs衬底上生长p-i-n结构,各层厚度分别为p层(50 nm)、i层(500 nm)、n层(3000 nm),掺杂浓度分别为1.0×10¹⁸ cm⁻³(p层)和3.0×10¹⁸ cm⁻³(n层)。
- 表面电极设计为Au/AuZn环形结构,光学窗口直径200 μm,确保激光有效激发i层。

  1. 电场强度标定

    • 通过电反射谱(electroreflectance spectroscopy, ER)测量Franz-Keldysh(FK)振荡,分析i层电场强度与偏压的关系。
    • 使用调制电压(630 Hz,0.1 V)和单色仪(分辨率0.5 nm)探测反射信号,通过锁相技术提取振荡极值能量,结合有效质量(0.0556m₀)计算电场强度。结果显示电场强度与偏压呈线性关系(0 V时22 kV/cm,8.0 V时140 kV/cm)。
  2. 太赫兹辐射实验

    • 采用飞秒脉冲激光(50 fs,90 MHz,1.57 eV)以45°角照射样品,泵浦功率50 mW(能量密度约5 μJ/cm²)。
    • 太赫兹波通过反射路径聚焦至低温生长GaAs光电导天线(gap 6 μm,长度20 μm),无需硅透镜。
    • 系统以氮气 purge 降低水汽吸收,湿度控制在5%。
  3. 数据分析

    • 时域波形显示:初始单周期信号(first burst)源于载流子瞬态电流;后续振荡信号(周期114 fs,8.76 THz)对应GaAs体材料的LO声子。
    • 傅里叶变换表明:8.0 V偏压下LO声子辐射强度比0 V增强200倍,且在>4.0 V时成为主导信号。

四、主要结果与机制分析
1. 电场强度依赖性
- 低电场范围(<50 kV/cm):辐射振幅(√Iₗₒ)与电场强度F呈线性关系,符合一阶电极化率(χ⁽¹⁾)主导的模型P_z = χ⁽¹⁾F。 - 高电场范围(>100 kV/cm):振幅与F²成正比,表明二阶电极化率(χ⁽²⁾_zzz)贡献显著。拟合结果显示χ⁽²⁾/χ⁽¹⁾ ≈ 2.1×10⁻² (kV/cm)⁻¹。

  1. 物理机制
    • 偏压电场打破GaAs晶格反演对称性,诱导非零χ⁽²⁾_zzz,增强LO声子极化(P_z = χ⁽¹⁾F + χ⁽²⁾_zzzF²)。
    • 飞秒激光触发载流子对电场的瞬时屏蔽(Coulomb screening),激发相干LO声子振荡,其辐射电场正比于极化二阶导数(∂²P/∂t²)。

五、结论与价值
1. 科学意义
- 首次在p-i-n二极管中实现室温下电压可控的单色太赫兹辐射,强度调控范围达200倍。
- 揭示了二阶电极化率对声子极化的贡献,为太赫兹辐射机制研究提供新视角。

  1. 应用潜力
    • 该结构可推广至其他半导体材料(如InP、ZnSe),通过调控LO声子频率拓展太赫兹波段覆盖。
    • 电压调控特性为太赫兹通信、成像等应用提供了可集成的器件方案。

六、研究亮点
1. 创新性器件设计:利用p-i-n二极管的内建电场实现动态调控,避免传统应变MQW(multiple quantum well)中压电场的不可控性。
2. 发现二阶电极化效应:在>100 kV/cm电场下,χ⁽²⁾_zzz对辐射强度的贡献首次被实验证实。
3. 方法学优势:结合ER光谱精确标定电场强度,为类似研究提供了标准化流程。

七、其他发现
- 辐射强度与温度稳定性显著优于MQW结构,适合实际应用环境。
- 无需低温或复杂外延结构(如应变层),降低了制备成本。

本研究通过“哥伦布的鸡蛋”式简单设计解决了太赫兹辐射调控难题,为太赫兹科学与技术发展提供了重要工具。

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