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超宽禁带氧化镓(Ga₂O₃)β/κ相异质结的II型能带排列及其自供电深紫外探测应用
作者与机构
本研究由Yi Lu、Patsy A. Miranda Cortez、Xiao Tang、Zhiyuan Liu、Vishal Khandelwal、Shibin Krishna和Xiaohang Li*(通讯作者)共同完成,研究团队来自沙特阿拉伯阿卜杜拉国王科技大学(KAUST)的先进半导体实验室。论文发表于《Advanced Materials》期刊,2025年1月在线发表,DOI编号为10.1002/adma.202406902。
学术背景
氧化镓(Ga₂O₃)作为一种超宽禁带半导体(UWBG,禁带宽度≈5 eV),在深紫外(DUV)光电子学和高功率电子器件中具有重要应用潜力。尽管Ga₂O₃存在多种晶相(α、β、γ、δ、ε和κ),但由于外延生长挑战和传统研究忽视,不同晶相间的能带排列长期未被系统研究。β相(单斜结构)因热力学稳定性最受关注,而κ相(正交结构)则因其优异的结晶质量和极化特性成为新兴研究对象。本研究首次通过实验证实了β-Ga₂O₃/κ-Ga₂O₃“相异质结”(Phase Heterojunction, PHJ)的II型能带排列,并揭示了其在自供电DUV探测中的独特优势。
研究流程与方法
1. 材料生长与表征
- 外延生长:采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在蓝宝石衬底上依次生长κ-Ga₂O₃(200 nm)和β-Ga₂O₃(200 nm)。κ相生长使用Ga₂O₃:SnO₂:SiO₂(98.4:1.5:0.1 wt%)靶材,通过Sn催化剂诱导κ相形成;β相生长采用非故意掺杂Ga₂O₃靶材,氧气氛围(5 mTorr)下完成。
- 结构分析:X射线衍射(XRD)显示κ-Ga₂O₃(002)和β-Ga₂O₃(−201)峰分离明显,证实两相独立存在。二次离子质谱(SIMS)显示Sn和Si元素在界面处富集,表明界面清晰。高分辨透射电镜(HR-TEM)进一步证实原子级陡峭界面,两相外延关系为<001> κ-Ga₂O₃ || <−201> β-Ga₂O₃。
能带偏移测量
器件制备与性能测试
主要结果与逻辑链条
1. 界面特性:HR-TEM和XRD证明β/κ异质结具有原子级锐利界面,晶格失配仅4.82%,优于传统β-Ga₂O₃/蓝宝石体系(6.6%)。
2. 能带工程价值:II型排列(ΔEv=0.65 eV,ΔEc=0.71 eV)产生的内建电场有效分离光生载流子,这是自供电性能的核心机制。
3. 器件优势:与混合相α/β-Ga₂O₃器件相比,β/κ异质结PD的响应度和开关比(580.8)显著更高,归因于单晶界面缺陷少、载流子复合率低。
结论与价值
1. 科学意义:首次实验揭示了Ga₂O₃多晶相异质结的能带排列规律,为超宽禁带半导体的能带工程提供了新思路。
2. 应用潜力:自供电DUV探测器可应用于军事侦察、环境监测等领域,无需外部电源的特性适合物联网和便携式设备。
3. 方法论创新:Sn催化外延技术为κ-Ga₂O₃的高质量生长提供了可靠方案,Si掺杂补偿效应降低了暗电流。
研究亮点
1. 创新性发现:β/κ-Ga₂O₃的II型能带排列此前仅存在理论预测,本研究通过XPS和HR-TEM提供了直接实验证据。
2. 技术突破:PLD生长实现了两相界面的精确控制,避免了传统退火法导致的相混合问题。
3. 性能标杆:零偏压响应度(17.8 mA/W)和响应速度(<0.53 s)优于多数报道的Ga₂O₃同质/异质结器件。
其他价值
研究还指出,Ga₂O₃多晶相异质结(如α/γ、ε/δ等)的进一步探索可能催生新型光电器件,例如极化调控晶体管或自驱动传感器。团队提出的“相异质结”概念可扩展至其他多晶相材料体系(如TiO₂、Bi₂O₃),为能带设计提供普适性策略。
该报告全面覆盖了研究的背景、方法、结果和意义,符合学术传播的严谨性要求。