纺织制造中织物缺陷检测的研究综述:技术进展、数据集与未来挑战
作者及发表信息
本文由Feifei He、Binjie Xin、Zhu Zhan、Wenting Yang及Jiyuan Liu共同撰写,作者团队来自上海工程技术大学(Shanghai University of Engineering Science)纺织与服装技术学院。论文于2025年5月14日在线发表于*The Journal of the Textile Institute*,DOI编号为10.1080⁄00405000.2025.2502188。
研究背景与目标
随着纺织工业向智能制造转型,织物缺陷检测成为保障产品质量、提升生产效率和降低成本的核心环节。传统人工检测方法因效率低、主观性强和分辨率限制,难以满足现代生产需求。计算机视觉与机器学习技术(尤其是深度学习)的兴起为自动化缺陷检测提供了新工具。本文旨在系统综述织物缺陷检测领域的技术发展脉络,分析图像处理与深度学习在各检测阶段的应用,整理现有公共数据集,并探讨当前挑战与未来研究方向,为纺织行业选择机器视觉技术提供理论指导。
主要内容与核心观点
织物缺陷检测的技术框架
织物缺陷检测流程分为四个关键模块:
- 图像采集系统:工业相机、数码单反(DSLR)和智能手机相机是主要设备,需根据分辨率、帧率和光谱覆盖范围选择。照明系统设计(如正面照明、背光照明和多角度照明)对成像质量至关重要。
- 图像预处理:包括去噪(中值滤波、高斯滤波)、增强(直方图均衡化、伽马校正)和分割(阈值法、区域生长)。深度学习方法(如去噪自编码器)在复杂噪声环境中表现优异。
- 特征提取与选择:
- *纹理特征*:统计方法(如灰度共生矩阵GLCM)、信号处理方法(如Gabor滤波和小波变换)、模型方法(如马尔可夫随机场MRF)。
- *颜色特征*:颜色直方图、颜色矩和色彩空间转换(如RGB转CIE Lab)用于检测染色不均等缺陷。
- *形状特征*:边界提取(Sobel算子)、形状描述符(面积、圆形度)和霍夫变换(Hough Transform)。
- *特征选择技术*:主成分分析(PCA)、遗传算法(GA)和线性判别分析(LDA)用于降维和优化特征组合。
- 分类与检测:
- *传统机器学习*:支持向量机(SVM)、决策树和随机森林(Random Forest)在早期研究中广泛应用,但依赖人工特征工程。
- *深度学习*:
- CNN系列:YOLO系列(如YOLOv3优化先验框)、SSD(多尺度检测)、Faster R-CNN(区域提议网络RPN)在实时性和精度上取得平衡。
- 生成对抗网络(GAN):通过对抗训练生成缺陷样本,解决数据不平衡问题(如Liu等提出的多阶段GAN框架)。
- Transformer:自注意力机制(Self-Attention)增强对复杂纹理的建模能力(如Swin-MFINet结合多特征融合)。
数据集与性能评估
论文整理了13个公开数据集,包括:
- TILDA(3200张图像,8类缺陷):适用于基准测试,但缺乏工业环境复杂性。
- Aliyun Tianchi Fabric(15436张图像,15类缺陷):高分辨率,覆盖多样化缺陷,但需高算力支持。
- ZJU-Leaper(98777张图像,19类缺陷):标注精细,适合研究类别不平衡问题。
数据集差异体现在织物类型、缺陷种类和成像条件(如光照、分辨率),需通过迁移学习(Transfer Learning)提升模型泛化能力。
当前挑战与未来方向
- 复杂纹理干扰: Jacquard织物和印花织物的纹理与缺陷特征易混淆,需开发针对性纹理分析算法。
- 微小缺陷检测:受限于成像分辨率和卷积层信息丢失,需结合超分辨率技术(如RDN-LTE)和多尺度特征融合。
- 实时性与算力限制:轻量化模型(如YOLO-LFD)和硬件加速(FPGA/ASIC)是解决方向。
- 数据局限性:公共数据集稀缺且样本不平衡,需构建标准化共享平台,并采用过采样(Oversampling)和代价敏感学习(Cost-Sensitive Learning)。
研究意义与价值
本文系统梳理了织物缺陷检测的技术演进,为学术界和工业界提供了以下价值:
1. 技术参考:对比传统方法与深度学习的优劣,指导算法选择与优化。
2. 数据集标准化:整理的数据集和评估指标为公平比较提供基准。
3. 工业应用:轻量化模型和实时检测方案助力纺织产线智能化升级。
4. 跨学科创新:结合纺织专业知识与计算机视觉,推动缺陷检测向高精度、自适应方向发展。
亮点与创新
- 全面性:首次将图像采集至分类检测的全流程技术纳入统一框架分析。
- 前瞻性:提出Transformer与GAN在微小缺陷检测中的潜力,如Zhang等的注意力特征融合GAN(AFF-GAN)。
- 实用性:针对工业痛点(如实时性、数据不平衡)提出具体解决方案,如渐进掩膜修复模型(PMRM)。
未来展望
作者呼吁加强产学研合作,开发高泛化性算法,并探索半监督学习(Semi-Supervised Learning)和边缘计算(Edge Computing)在纺织质检中的应用。