本研究由Bikesh Gupta、Parul、Yonghwan Lee(通讯作者)、Joshua Zheyan Soo、Sonachand Adhikari、Olivier Lee Cheong Lem、Chennupati Jagadish、Hark Hoe Tan和Siva Karuturi(通讯作者)合作完成,团队成员来自澳大利亚国立大学电子材料工程系、韩国电子技术研究院(KETI)、莫纳什大学马来西亚分校等机构。研究成果发表于Small Science期刊(2024年10月30日在线发表),DOI: 10.1002/smsc.202400167。
研究领域:III-V族半导体太阳能转换器件。
背景与动机:
1. 能源需求与挑战:全球能源需求增长与化石燃料枯竭问题推动了对可再生能源(如太阳能)的开发。III-V族半导体(如磷化铟,InP)因其理想带隙(1.34 eV)和高光电转换效率(接近30%)成为太阳能器件的理想材料,但高昂的制造成本(源于晶圆价格和外延生长工艺)限制了其广泛应用。
2. 技术瓶颈:传统外延剥离技术(Epitaxial Lift-Off, ELO)存在基板重复利用困难、工艺复杂等问题。
研究目标:开发一种低成本、高效的机械剥离技术(Controlled Spalling),制备超薄InP薄膜,并验证其在太阳能电池和光阳极器件中的性能。
研究对象:(110)晶向的p型InP晶圆(厚度350 μm,掺杂浓度2×10¹⁷ cm⁻³)。
关键步骤:
- 应力层沉积:通过电镀法在InP表面沉积6 μm厚的镍(Ni)应力层,利用其张应力诱导裂纹扩展。
- 机械剥离:通过机械楔形工具引发初始裂纹,沿<110>方向剥离15 μm厚的InP薄膜。
表征方法:
- 形貌分析:扫描电子显微镜(SEM)显示剥离表面光滑,仅有265 nm高度的线状结构(源于机械力不均匀)。
- 光学性能:阴极发光(CL)和光致发光(PL)光谱证实剥离薄膜的带隙(1.34 eV)与母体基板一致,表明光学性能未受损。
器件结构:ITO/TiO₂/InP/Ni(TiO₂为电子选择性接触层,ESC)。
关键工艺:
- 薄膜平坦化:将弯曲的InP薄膜通过银浆粘合到镍箔上以消除形变。
- 表面处理:氢等离子体(H₂ Plasma)处理降低表面载流子浓度,提升开路电压(Voc)。
性能测试:
- 未处理器件效率为8.9%(Voc=714 mV,Jsc=19.6 mA/cm²);
- H₂等离子体处理后效率提升至13%(Voc=753 mV,Jsc=24.4 mA/cm²)。
器件设计:光吸收层(InP)与催化层(NiFeOOH)空间分离,避免光吸收损失。
催化层制备:通过溶液腐蚀法在镍箔上沉积NiFeOOH催化剂(XPS证实含Ni²⁺/Ni³⁺和Fe³⁺活性位点)。
性能指标:在1.23 V vs. RHE(可逆氢电极)下,光电流密度达19.3 mA/cm²,光子-电流转换效率(ABPE)为4%。
科学价值:
- 提出了一种无需化学机械抛光的InP薄膜制备方法,简化了III-V半导体器件的制造流程。
- 验证了机械剥离薄膜在异质结太阳能电池和光电解水中的可行性,为低成本太阳能转换器件提供了新思路。
应用价值:
- 可推动柔性太阳能电池和绿色氢能技术的发展,助力可再生能源商业化。
(全文约2000字)