文献信息
类型：文献全文
标题：Emerging trends in the chemistry of polymeric resists for extreme ultraviolet lithography
DOI：10.1039/d4py00957f
补充信息：期刊:Polymer Chemistry
卷:15； 期:45； 页:4599-4614
出版商:Royal Society of Chemistry (RSC)
备注：无
积分奖励：200
发布时间：2026-09-22 10:10:18
文献信息
期刊：Polymer Chemistry
出版商：Royal Society of Chemistry (RSC)
卷、期、页：15(45):4599-4614
作者：Jie Cen;Zhengyu Deng;Shiyong Liu