10⁻⁹レベルの外部磁場ゼロ量子抵抗標準

学術的背景と問題提起 計量学の分野では、量子ホール効果(Quantum Hall Effect, QHE)とジョセフソン効果(Josephson Effect)は、それぞれ電気抵抗(オーム)と電圧(ボルト)の量子標準を提供しています。しかし、従来の量子ホール抵抗標準(Quantum Hall Resistance Standards, QHRs)は、超電導磁石などで10テスラ以上の強い磁場を生成する必要があるため、実用的な応用上の制約があります。特にジョセフソン電圧標準(Josephson Voltage Standards, JVS)との統合時には、磁場中ではJVSが正常に動作しないため、大きな課題となっています。このため、外部磁場を必要とせずに、高精度な電気抵抗量子標準を実現することが重...

二次元材料の置換ドーピングと厚さ制御を用いた高性能p型電界効果トランジスタ

高性能p型フィールド効果トランジスタ:2次元材料の置換ドーピングと厚さ制御 学術的背景 半導体技術の進展に伴い、シリコン基フィールド効果トランジスタ(FET)はパフォーマンスの限界に近づいています。このボトルネックを克服するため、研究者たちはシリコンの代替として2次元(2D)材料の可能性を模索しています。モリブデン二硫化物(MoS₂)、モリブデン二セレン化物(MoSe₂)、およびタングステン二セレン化物(WSe₂)といった2D遷移金属ジカルコゲナイド(TMD)は、原子レベルで平滑で欠陥のない表面や優れた電子特性により注目されています。しかしながら、n型2D FETでは著しい進歩が見られる一方、p型2D FETの開発は遅れています。これは主に、金属-2D材料の界面におけるフェルミ準位ピン止め効...

Cr2Ge2Te6のファンデルワールス磁石に基づくシームレスグラフェンスピンバルブ

シームレスなグラフェンスピンバルブの構築:Van der Waals磁性体Cr₂Ge₂Te₆の近接効果に基づいて 研究の背景と意義 グラフェンは、高い電子移動度と長いスピン拡散長を持つ2次元材料として、スピントロニクス分野で大きな可能性を秘めています。しかし、グラフェン自身のスピン軌道相互作用(Spin-Orbit Coupling, SOC)や磁気交換相互作用(Magnetic Exchange Coupling, MEC)は弱く、それがスピン情報の生成や制御における機能を制約しています。一方で、近接効果(Proximity Effects)を活用し、近接する材料との短距離相互作用を介して新たな物理特性を導入することで、グラフェンのスピントロニクス応用性能を向上させることが可能です。 これ...

高移動度n型二硫化モリブデントランジスタにおける分数量子ホール相

高遷移率n型モリブデン⼆硫化物トランジスターにおける分数量子ホール相研究 背景および研究動機 低温環境において、半導体遷移金属ダイカルコゲナイド(Transition Metal Dichalcogenides, TMDs)に基づくトランジスターは、理論的に高いキャリア移動度、強いスピン軌道相互作用、そして量子基底状態における内在的な強電子相互作用を提供することができます。これにより、多体電子相互作用や量子状態の探索に理想的なプラットフォームとなります。しかし、極低温でTMD材料に対して信頼性の高いオーミック接触(Ohmic Contact)を実現する難しさから、フェルミ準位がバンド端近くにある場合の電子相関特性、特に部分充填されたランドー準位(Landau Levels, LLs)での分数...

原子レベル薄いMoS2ナノエレクトロメカニカル共振器における密接に配置されたモードの非線形結合

原子層MoS₂ナノ電気機械共振器における密接なモード間の非線形結合の研究 学術的背景 ナノテクノロジーの急速な発展に伴い、ナノ電気機械システム(Nanoelectromechanical Systems, NEMS)はセンサー、信号処理、量子計算などの分野で大きな応用可能性を示しています。特に、二硫化モリブデン(MoS₂)などの二次元(2D)材料は、原子レベルの厚さ、優れた機械的特性、および電気的特性を備えており、NEMSを構築するための理想的な材料となっています。MoS₂などの2D材料は、ナノスケールで多モード共振と非線形ダイナミクスを示し、これらの特性は新しいデバイス物理学を研究するためのユニークなプラットフォームを提供します。 NEMS共振器において、非線形モード結合は重要な研究テーマ...