基于多光电晶体管-单忆阻器阵列的可重构传感器内处理

基于多光晶体管-单忆阻器阵列的可重构传感器内处理:一种融合机器学习与类脑神经网络的新型视觉计算平台 学术背景及问题提出 人工视觉系统作为智能边缘计算的重要组成部分,长期以来受到传统基于CMOS(互补金属氧化物半导体)技术与冯·诺依曼架构的限制。这类系统的图像处理效率受制于独立的图像传感器、存储模块以及处理器之间的物理分离。这种分离导致大量数据冗余和信号处理延迟,增加了电路复杂性和功耗问题,限制了实时处理能力。在自然环境中,传统视觉系统需要完成从信号捕获到图像处理的一系列繁杂过程,但其效率有限。 近年来,传感器内计算(in-sensor computing)这一融合感知与计算的新型架构,由于其具备内存计算(in-memory computing)和神经形态特性,逐渐受到关注。在此领域,光学神经...

高性能p型场效应晶体管:二维材料的替代掺杂与厚度控制

高性能p型场效应晶体管:二维材料的替代掺杂与厚度控制 学术背景 随着半导体技术的不断发展,硅基场效应晶体管(FET)在性能提升方面逐渐接近物理极限。为了突破这一瓶颈,研究人员开始探索二维(2D)材料作为硅的潜在替代品。二维过渡金属二硫属化物(TMDs),如二硫化钼(MoS₂)、二硒化钼(MoSe₂)和二硒化钨(WSe₂),因其原子级平滑的表面和优异的电学性能,成为研究的热点。然而,尽管n型二维FET取得了显著进展,p型二维FET的发展却相对滞后。这主要是由于金属-二维材料接触界面处的费米能级钉扎效应,导致p型载流子注入效率低下,接触电阻(Rc)较高。 本文的研究旨在通过替代掺杂和厚度控制,解决p型二维FET的性能瓶颈问题。具体来说,作者通过在MoSe₂和WSe₂中引入钒(V)、铌(Nb)和钽...

基于极端量子限制的垂直纳米线异质结隧穿晶体管

超量子限域下垂直纳米线异质结隧道晶体管实现高性能低能耗电子器件的新突破 学术背景 集数据密集型计算和人工智能的快速发展对电子器件能效提出了更高的需求。然而,目前传统硅基互补金属氧化物半导体(CMOS)技术由于受物理极限的制约,已难以通过尺寸进一步缩小实现理想性能和功耗的平衡。这些限制包括短沟道效应和直接源漏隧穿效应所引发的最小栅长限制,以及受费米-狄拉克(Fermi-Dirac)电子统计学制约的60 mV/dec的亚阈值摆幅(subthreshold swing, SS)热极限,亦称为”玻尔兹曼暴政”。因此,为实现下一代高性能计算设备对低能耗、高驱动电流和小占用面积的需求,科学家们正在寻求超越传统MOSFET设计的新型晶体管架构。 其中,隧道场效应晶体管(TFET)因其实现深亚热学开启特性和...

使用范德华金属阴极实现模拟开关和高开关比的忆阻器

基于二维范德华金属阴极的模拟电阻开关存储器研究 学术背景 随着人工智能(AI)应用的快速发展,传统的冯·诺依曼架构在数据密集型计算任务中面临性能瓶颈。神经形态计算(neuromorphic computing)作为一种新兴的计算范式,能够以更高的速度和效率处理数据密集型任务。在这一领域中,忆阻器(memristor)因其能够实现内存计算和模拟计算而备受关注。特别是具有多级电导状态的模拟忆阻器,能够显著提高神经形态计算的效率。然而,现有的模拟忆阻器通常具有较小的开关比(on/off ratio),这限制了其在高精度权重映射中的应用。 为了解决这一问题,研究人员一直在探索如何提高模拟忆阻器的开关比,同时保持其多级电导状态。传统的忆阻器主要分为两类:基于价态变化机制(valence-change-...

基于插层过渡金属二硫化物的高效发光二极管

基于插层过渡金属二硫族化合物的高发射率下无效率衰减的发光二极管研究 背景与研究意义 近年来,基于二维(2D)材料的发光二极管(LEDs)在显示技术、光通信和纳米光源等领域的应用前景备受瞩目。然而,由于二维材料的强量子限域效应与减弱的介电屏蔽,二维材料LEDs在高激发生成率下常出现“效率衰减”(Efficiency Roll-Off)的现象。这种现象主要归因于激子-激子湮灭(Exciton-Exciton Annihilation, EEA)过程,该过程是一种类似俄歇复合的非辐射能量耗散机制。具体表现为:一个激子通过能量转移导致另一个激子离子化,同时导致辐射效率急剧降低。 尽管已有研究通过六方氮化硼(hBN)包覆和高κ基底等介电工程手段来减弱EEA,如在单层过渡金属二硫族化合物(TMDs)中实...